Energía y Cambio Climático. Favorecer la inversión privada en tecnología baja en carbono
El estado actual en el que la capacidad de financiación pública es limitada, empresas y entidades financieras se convierten en jugadores clave para conseguir los objetivos de seguridad energética y de lucha contra el cambio climático. Con estas premisas, Fundación Entorno-BCSD España ha realizado, con el apoyo del Ministerio de Medio Ambiente y Medio Rural y Marino el informe “I+D+i y cambio climático. Cómo aprovechar la capacidad tecnológica de la empresa española”, documento que será presentado en esta sesión y que analiza cómo favorecer el desarrollo y despliegue de tecnologías bajas en carbono proponiendo medidas concretas para favorecer la inversión privada.
La jornada contará además con una mesa de debate donde algunas de las 16 empresas participantes en el informe, mostrarán su capacidad tecnológica para liderar el cambio en sectores clave como el energético y la edificación
Al finalizar la sesión se entregará un ejemplar de la publicación a todos los asistentes.
PROGRAMA
16.45 h Recepción de asistentes
17.00 h Inauguración
Dña. Nieves Cifuentes Valero, Directora Departamento de Sostenibilidad de la Escuela de Organización Industrial.
Dña. Raquel Aranguren, Directora Técnica de Fundación Entorno-BCSD España.
Presentación del informe “I+D+i y cambio climático. Cómo aprovechar la capacidad tecnológica de la empresa española”
17.45 Mesa de debate: experiencias tecnológicas de éxito. Factores clave
Modera: Dña. Raquel Aranguren, Directora Técnica de Fundación Entorno-BCSD España.
Participantes:
Dña. Pilar Coca Llano, Investigadora del Área de I+D+i de ELCOGAS.
D. Antonio José de la Torre Quiralte , Director de Desarrollo de Producto de GAMESA.
D. Asier Ochoa de Eribe Iturrieta, Director de Desarrollo Sostenible de FYM-Italcementi Group.
18.45 h Ronda de preguntas
19.00 h Fin de la sesión
LUGAR
Lunes 6 de Junio de 2011
Campus EOI Madrid.
Avda. Gregorio del Amo, 6. 28040 Madrid
INSCRIPCIONES
Inscripción gratuita. Aforo limitado
Registro imprescindible. Pulse aquí